型号:

 


技术参数
 
        可提供各种不同材料、周期、功能的极限尺度光栅,一期产品,采用纳米压印技术结合电子束镀膜、反应离子刻蚀等现代微加工技术制造,光栅周期500~100nm,极限尺寸可<100nm,可用于各类高分辨光谱仪、精密数控机床、卫星导航和导弹制导等民用、军事高端领域。
        另外还可提供高密度自支撑透射金属光栅。
 

PSS蓝宝石衬底结构
 
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